第一百五十五章：光源與波瀾

    李由皺了皺眉，“還不是很順利，當初我們學的是採用248nm的krf準分子激光作為光源的第三代光刻機和採用了193nm的arf準分子激光，的第四代光刻機。

    所以光源上的理論還有所生疏，而且德國那邊的儀器，他們給的不是最先進的那一款，還有儲存環，我們國內的不是很。”

    顧青表示理解，嘆了口氣道:“這很正常，要達到國際先進水平不容易，但是我們還有一個研究部門正在進行改造，不論是儀器和儲存環，這個月底就會給你們。

    asml1公司採用的是高能脈衝激光轟擊液態錫靶，形成等離子體然後產生波長13.5納米的euv光源，功率約250瓦。

    隨著芯片工藝節點的不斷縮小，對euv光源功率的要求也將不斷提升，估計會達到千瓦量級。

    而基於ss1mb的euv光源有望實現更大的平均功率，並具備向更短波長擴展的潛力，所以咱們這個ss1mb光源的前景是可以確定的。

    你們別慌，前期的理論功課做好了，下個月的落地實驗才會走得穩。”

    李由點頭笑了笑，“我知道，我們這邊的研發人員每天都在生產工作完成後加班學習，咱們自己人幹活，不需要看外人的表情，所以大家的動力都很足。”

    顧青本來還想再聊一會兒，但是董琦的電話突然打了過來。

    嗯，準確來說是打給半導體部門的辦公室管理，然後找到的顧青。

    顧青接過遞來的電話。

    “找我有事？”

    “顧總，顧哥，我們的電話都快被打爆了！

    除了合作伙伴外，還有國際組織對我們的仿生假肢技術表示感興趣，並且想爭取明天發放的一部分名額。”

    “按照規矩來，還用我教你嗎？”

    “我知道要按照規矩來，可是美利堅方面也有高官在發聲了。”

    “他們發聲管的到我們什麼事？

    你和老黃最近就不要出國了，留意下安全，明天的名額還是交給我們公司的系統處理。”